半導體開發(fā)/制造/潔凈室露點計、氧氣濃度計、溫濕度計、風速計

更新時間：2024-01-20

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半導體開發(fā)/制造/潔凈室露點計、氧氣濃度計、溫濕度計、風速計

在半導體開發(fā)/制造過程中，去除顆粒、水分和氧氣等干擾因素是一個主要問題。為了確認干擾的消除，

我們的露點計、溫度/濕度計和氧濃度計被用于半導體制造、運輸和檢查等各種過程。也用于除濕空氣

（干燥空氣）的除濕以及氮氣、氬氣、氦氣、氫氣等氣體純度的測量和控制。相反，某些過程需要高水

分含量，在這些過程中，露點計用于保持恒定的水分含量。主要使用以下產(chǎn)品。

水分測量

① 將水分含量控制在極微量（ppb 至個位數(shù) ppm）的過程
　? 可測量低至 -100 ℃ 露點的 TK-100 電容式露點計（氧化鋁型）　? TE-660
控制的過程
露點至少-60°C的露點計（聚合物型）
③ 最重要的工藝，作為露點計的標準
　? MBW鏡面冷卻型能夠測量-95°C至+99°C的露點（鏡面式）露點計
④ 需要控制相對濕度水平的工藝和潔凈室
　? 簡易型號 EE060
⑤ 需要大量水分并需要控制恒定含水量的工藝
　? 主要用于高溫高濕下的測量EE33 溫濕度計，具有防冷凝措施

氧氣濃度測量

① 需要通過氫氣置換
　等去除氧氣的工藝 ? 可確認 1 ppm 或更低的 2001LC 原電池氧濃度計
② 需要在沒有氫氣的情況下測量痕量氧氣濃度的工藝
　? 能夠測量高達 ppb 水平的型號4100氧化鋯氧氣濃度計

風速測量

① 在潔凈室和制造設備中氣流非常重要的過程
　? 可測量微風的風速計

主要產(chǎn)品

TK-100
在線露點儀

Techne測量暢銷書

電容式
±2℃dp
安裝型
-100～+20℃dp
生產(chǎn)計劃管理

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